特許
J-GLOBAL ID：200903064382092183
ウエーハの洗浄装置及びその装置を用いる洗浄方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 正澄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-136905
公開番号（公開出願番号）：特開平9-321016
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：
【要約】【目的】微粒子及び不純物汚染の少ない洗浄を安価な設備で実現するための装置を得ること。また、ウエーハ表面の微粒子を除去し、金属不純物汚染を検出下限以下のレベルまで低減させることが可能な洗浄方法を得ること。【構成】洗浄槽にシリコンウエーハを収納し、洗浄槽内に洗浄液を充填するウエーハの洗浄装置において、洗浄槽7は、ウエーハ装着部2を有するウエーハ保持部材1と、ウエーハ装着部2を覆うウエーハ蓋部材4とを組み合わせて形成され、ウエーハ装着部2は、一枚のシリコンウエーハwが収納される側面開口の部位であり、このウエーハ装着部2を、ウエーハ蓋部材4で横方向から覆って洗浄槽7を形成する構成のウエーハの洗浄装置である。洗浄槽7にシリコンウエーハを収納し、洗浄槽内の洗浄液を切り替えて、シリコンウエーハを大気に曝すことなく洗浄する構成のウエーハの洗浄方法である。
請求項（抜粋）：
洗浄槽にシリコンウエーハを収納し、洗浄槽内に洗浄液を充填するウエーハの洗浄装置において、前記洗浄槽は、ウエーハ装着部を有するウエーハ保持部材と、前記ウエーハ装着部を覆うウエーハ蓋部材とを組み合わせて形成され、前記ウエーハ装着部は、一枚のシリコンウエーハが収納される側面開口の部位であり、このウエーハ装着部を、前記ウエーハ蓋部材で横方向から覆って洗浄槽を形成することを特徴とするウエーハの洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/04
, B08B 11/02
H01L 21/304 341 T
, H01L 21/304 341 C
, B08B 3/04 Z
, B08B 11/02
