特許
J-GLOBAL ID：200903064383082696
欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-042424
公開番号（公開出願番号）：特開平6-258233
出願日： 1993年03月03日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：
【要約】【目的】 迷光により誤って異物を検出する確率を小さくすると共に、低段差異物を高い確率で検出する。【構成】 光源7からの光ビームをレンズ系8,9を介してシート状の光ビームL2に変換し、この光ビームL2で斜めにペリクル1上の領域10を照射し、光源11からの光ビームをレンズ系12,13を介してシート状の光ビームL4に変換し、この光ビームL4でほぼ垂直にペリクル1上の領域10を照射する。領域10内の異物等の欠陥からの散乱光を受光レンズ14で集光し、この集光された光で1次元撮像素子15の撮像面にその欠陥の像を結像する。低段差異物は光ビームL4の散乱光により検出する。
請求項（抜粋）：
光透過性基板の表面の欠陥を検査する装置において、前記光透過性基板に第1の光ビームを斜めに照射する第1の光照射手段と、前記光透過性基板に第2の光ビームをほぼ垂直に照射する第2の光照射手段と、前記第1の光ビーム及び前記第2の光ビームによる前記欠陥からの散乱光を光電変換する受光手段と、該受光手段からの光電変換信号の内の前記第1の光ビームに対応する第1の信号と、前記光電変換信号の内の前記第2の光ビームに対応する第2の信号とより、前記欠陥の種類及び大きさを判別する信号処理手段とを有することを特徴とする欠陥検査装置。
IPC (5件)：
G01N 21/88
, G01N 21/27
, G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
