特許
J-GLOBAL ID：200903064392536780
粒度分布測定装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-057804
公開番号（公開出願番号）：特開平5-256758
出願日： 1992年03月16日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 微小な粒子や低い濃度の試料でも、高いS/Nのもとに回折/散乱光の強度分布を測定することができ、常に高精度の粒度分布測定結果を得ることのできるレーザ回折/散乱式粒度分布測定装置を提供する。【構成】 被測定粒子群に照射すべきレーザ光の光源を半導体レーザとし、この半導体レーザの出力光強度を複数段階に切り換える切換手段を設け、この切換手段で選択されている光強度に応じた演算のもとに回折/散乱光強度分布測定結果を粒度分布に換算するよう構成する。
請求項（抜粋）：
半導体レーザを測定用光源とし、その出力光を分散飛翔状態の被測定粒子群に照射して得られる回折/散乱光の空間強度分布の測定結果を、演算手段によりその粒子群の粒度分布に換算する装置において、上記半導体レーザの出力光強度を複数段階に切り換える切換回路を有し、上記演算手段は、上記切換回路により選択されている出力光強度に応じた演算のもとに上記換算を行うよう構成されていることを特徴とする粒度分布測定装置。
IPC (2件)：
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