特許
J-GLOBAL ID：200903064393992020
プリント基板パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-285893
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128236
出願日： 1991年10月31日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：
【要約】【目的】プリント基板パターン外観を検査する際に発生する疑似欠陥を除去し検査する。【構成】対象パターンを光電変換スキャナ1で走査し2値化回路2によりパターンの2値画像を得た後、疑似欠陥、特にクリアランス疑似欠陥を除去するための専用マスクを発生し、このマスクをかけて設計ルール検査を行う。専用マスクの発生は、まず、2値化画像を細線化部3で細線化し、ランド接続点抽出部4で特徴点抽出マスクによりランド接続点を抽出、さらにこの点を中心としてランド領域を指定するウインドをランド領域ウインド発生部5で発生する。一方で2値化画像を反転したパターンに対して反転細線化部6で細線化した反転細線画像パターンを得る。この反転細線画像パターンからランド領域ウインドによりウインドナーのパターンだけを切り出し、これを拡大してクリアランス疑似欠陥除去マスクとする。
請求項（抜粋）：
被検査プリント基板パターンを光電変換スキャナで走査して得られる入力画像を2値化画像に変換する2値化回路と、前記2値化回路により出力される2値画像に細線化を施し細線画像を出力する細線化部と、この細線化部より出力される細線画像上のパターンの特徴点抽出によりランド接続点を抽出するランド接続点抽出部と、このランド接続点を中心にあらかじめ設定されたサイズのランド領域を指定するウインドを発生するランド領域ウインド発生部と、前記2値化回路より出力される2値画像上のパターン部以外の領域に対して細線化を施し反転細線画像を出力する反転細線化部と、切り出したランド領域ウインド内の反転細線化画像のデータをあらかじめ指定された回数だけ膨張させたマスクウインドを生成するクリアランス疑似欠陥除去マスク発生部と、前記2値化回路より出力される2値画像上のパターンに対し、前記クリアランス疑似欠陥除去マスク発生部より発生されるマスクウインドをかけて設計ルールを満足しているかどうかの設計ルール検査を行いパターンの欠陥を出力する設計ルール検査部とを含むことを特徴とするプリント基板パターン検査装置。
IPC (5件)：
G06F 15/62 405
, G01B 11/24
, G01N 21/88
, H04N 7/18
, H05K 3/00
