特許
J-GLOBAL ID:200903064416175474

光導波路及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-193507
公開番号(公開出願番号):特開2002-014246
出願日: 2000年06月27日
公開日(公表日): 2002年01月18日
要約:
【要約】【課題】 パワー強度の強いレーザー光を照射することにより材料そのものの改質を行い、その結果、屈折率を変化させることにより複雑な三次元状のコア領域が容易に形成される光導波路を提供する。【解決手段】 有機材料からなる母相2の内部に、レーザー光4の照射により屈折率が変化されたコア領域7が連続して形成されて成る。円形の断面をもち複雑な形状を有する三次元状のコア領域7を容易に形成することができる。有機材料を母相2として軽量化を図ると共に製造コストを低減することができる。製造工程においてコア領域7を形成した後、このコア領域7を固定化するような煩雑な工程が不要となる。
請求項(抜粋):
有機材料からなる母相の内部に、レーザー光の照射により屈折率が変化されたコア領域が連続して形成されて成ることを特徴とする光導波路。
IPC (3件):
G02B 6/122 ,  G02B 6/13 ,  G02B 6/12
FI (3件):
G02B 6/12 A ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N
Fターム (6件):
2H047KA04 ,  2H047KA12 ,  2H047PA11 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05

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