特許

J-GLOBAL ID：200903064424944487

製品の製造プロセスにおける特性調整方法

発明者： 伊藤 義治 ,  福原 康弘
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (1件)： 恩田 博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-089882
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287803
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：

【要約】【課題】製品特性の合わせ込みを比較的容易に実現し、且つ特性合わせ込みの精度を向上させること。【解決手段】工程管理データベースには、製品の製造プロセスにおける中間特性、特性制御加工条件及び最終特性がロット毎のデータセットとして記憶保持されている。そして、処理1として、ロット毎のデータセットが準備され、次に処理2として、処理1により得られた各データセットについてクラスタ処理が実施される。更に、処理3として、処理2によって得られたデータセットを用い、中間特性と特性制御加工条件とを入力、最終特性を出力としてニューラルネットワークにより入出力間の因果関係を定量化し学習モデルが作成される。その後のモデル運用時には、特性調整工程に際し、前記作成した学習モデルを用いてそれ以前の工程での中間特性から最適な特性制御加工条件が検索される。

請求項（抜粋）：

特性制御加工条件を付与するための特性調整工程を多数の工程の途中に設けると共に、その特性調整工程の後に少なくとも1つの別工程を経て特性検査工程を設けた製品の製造プロセスにおいて、特性調整工程よりも前の各工程でそれぞれ得られた中間特性と、特性調整工程で付与された特性制御加工条件と、その時々の中間特性及び特性制御加工条件の結果得られた特性検査工程での製品特性とからなるロット毎のデータセットを準備するデータ準備段階と、前記準備したデータセットを用い、中間特性と特性制御加工条件とを入力、製品特性を出力とした時の因果関係を表す学習モデルを作成するモデル作成段階と、特性調整工程に際し、前記作成した学習モデルを用いてそれ以前の工程での中間特性から最適な特性制御加工条件を検索するモデル運用段階と、を有することを特徴とする製品の製造プロセスにおける特性調整方法。

IPC (11件)：

G05B 13/04 ,  G01N 27/26 381 ,  G01N 27/26 391 ,  G01N 27/409 ,  G05B 13/02 ,  G06F 17/30 170 ,  G06F 17/30 210 ,  G06F 17/30 340 ,  G06F 17/60 106 ,  G06F 19/00 110 ,  G06N 3/00 550

FI (11件)：

G05B 13/04 ,  G01N 27/26 381 B ,  G01N 27/26 391 B ,  G05B 13/02 L ,  G06F 17/30 170 Z ,  G06F 17/30 210 D ,  G06F 17/30 340 Z ,  G06F 17/60 106 ,  G06F 19/00 110 ,  G06N 3/00 550 E ,  G01N 27/58 B

Fターム (31件)：

2G004BB01 ,  2G004BD04 ,  2G004BE15 ,  2G004BE16 ,  2G004BE22 ,  2G004BF03 ,  2G004BF08 ,  2G004BL01 ,  2G004BL16 ,  2G004BL17 ,  2G004BM06 ,  2G004BM07 ,  5B075ND03 ,  5B075ND20 ,  5B075NR02 ,  5B075NR12 ,  5B075PQ00 ,  5B075PR06 ,  5B075QM08 ,  5B075QT04 ,  5B075UU40 ,  5H004GB15 ,  5H004HA16 ,  5H004JA21 ,  5H004JB07 ,  5H004KA71 ,  5H004KC12 ,  5H004KC22 ,  5H004KC28 ,  5H004KD36 ,  5H004LA18

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 半導体製造プロセス安定化支援システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-056611   出願人：株式会社日立製作所
• 製造ライン及び該製造ラインにおける条件設定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-086059   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭62-264854