特許
J-GLOBAL ID：200903064429985963
複合型薄膜磁気ヘッド及び磁気抵抗ヘッド構造の製造方法、複合型薄膜磁気ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 明彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024060
公開番号（公開出願番号）：特開平11-273027
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：
【要約】【解決手段】 誘導型書込み構造及び磁気抵抗センサを備えた複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法において、パターニングした保護層を用いて、誘導型書込み構造のポール先端部から離れた領域の第2シールド/下ポール層を保護するために保護層にウィンドウを設ける。製造中の構成は、第1シールド層、磁気抵抗素子、下側ポールとして機能する第2シールド層、保護層、保護ウィンドウ、書込みギャップ、上ポール、及びポール先端部構造からなる。保護層及び保護ウィンドウを用いて、書込み構造を支持するペデスタル部に隣接して第2シールド層に溝を形成する。溝は、磁束がポール先端部構造の幅を超えて第2シールド層に延びるのを防止する。第2シールド層は、磁気抵抗素子をシールドし得る幅を有する。【効果】 サイドフリンジによる書込みが低減してオフトラック性能が改善される。
請求項（抜粋）：
下側ポール層及び上側ポール層を有する書込みポール構造を備える誘導型書込み変換器と磁気抵抗センサとを備えた複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、基板上に第1磁気シールドを被着する過程と、前記書込みポール構造の下側ポールとして機能する第2磁気シールド層を被着する過程と、前記第2磁気シールド層上に保護層を、前記書込みポール構造から前記第2磁気シールド層の領域を保護するため、及び前記書込みポール構造を支持するペデスタル部及び前記ペデスタル部の両側に溝を形成するためのパターンに形成する過程とを有することを特徴とする複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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