特許

J-GLOBAL ID：200903064443745231

基板洗浄装置

発明者： 三木 正博 ,  新田 雄久 ,  山口 嘉昭
出願人/特許権者： 株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-247558
公開番号（公開出願番号）：特開2000-070884
出願日： 1998年09月01日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：

【要約】【課題】 熱的及び機械的損傷に対する強い耐久性を有しつつも、洗浄液の飛散による逆汚染を抑止し、洗浄チャンバー内のクリーン化や洗浄液クリーン化を達成する基板洗浄装置を提供する。【解決手段】 アモルファスカーボン、さらに詳細には微細孔サイズが0.1μm以下、又は0.1μm〜5mm程度で、気孔率が0〜99%であることにより表面が親水性〜疎水性であり、液又はガスに非透過性〜透過性である種々のアモルファスカーボンを選択して構成材料とし、?@洗浄チャンバー101の内壁、?Aスピン洗浄液の衝突緩衝板102、?Bウェハ保持ピン103、?Cスピン洗浄液に各種ガスを溶解させる隔膜管などを構成する。

請求項（抜粋）：

設置された基板に洗浄剤を供給して洗浄する基板洗浄装置であって、前記洗浄剤の接触部位のうち、少なくとも前記基板の近傍部位に所定範囲内で任意の気孔率を有する微細孔構造の被覆部材を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (4件)：

B08B 3/10 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648

FI (4件)：

B08B 3/10 Z ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 Z

Fターム (10件)：

3B201AA03 ,  3B201AB03 ,  3B201AB42 ,  3B201BB21 ,  3B201BB94 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CD22 ,  3B201CD24