特許
J-GLOBAL ID:200903064451124106

リポソームを含有する洗浄用組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外9名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-542430
公開番号(公開出願番号):特表2002-510746
出願日: 1999年04月08日
公開日(公表日): 2002年04月09日
要約:
【要約】本発明はリポソームと約40質量%以上の溶剤を有する洗剤を含むとされる。リポソームには該リポソーム製造後約7日より後に溶剤を封入する。溶剤はイソプレノイドまたはエステル溶剤とされる。更に、溶剤はd-リモネンまたは2塩基酸エステルとされる。加えて、リポソームは、大型一枚膜ベシクル、多重層ベシクル、少数層ベシクル、および小型一枚膜ベシクルからなる群から選ばれる。望ましくは、リポソームは少数層ベシクルである。望ましくは、前記洗剤は60質量%以上の溶剤を有するものとされる。より望ましくは、前記洗剤は80質量%以上の溶剤を有するものとされる。更に、前記溶剤はd-リモネンと2塩基酸エステルとの質量比が約1:1のものである。
請求項(抜粋):
リポソームと、 約40質量%以上の溶剤とを含む洗剤であって、 前記リポソームは、前記リポソームの製造後約7日より後に前記溶剤を封入されるものである洗剤。
IPC (4件):
C11D 17/08 ,  C11D 3/18 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/43
FI (4件):
C11D 17/08 ,  C11D 3/18 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/43
Fターム (8件):
4H003CA18 ,  4H003DA05 ,  4H003DB03 ,  4H003EA24 ,  4H003ED03 ,  4H003ED32 ,  4H003FA04 ,  4H003FA21

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