特許
J-GLOBAL ID：200903064454988152
磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-063368
公開番号（公開出願番号）：特開平6-251309
出願日： 1993年02月27日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【構成】 磁気ギャップ形成面にSiO2 よりなるギャップ膜が形成された一対の磁気コア半体同士を突合せ、これら一対の磁気コア半体同士を融着ガラスで接合するに当たり、融着ガラスの粘度を5000〜10000Pa・sとしてバック側をガラス融着し、融着ガラスの粘度を50000〜200000Pa・sとしてフロント側をガラス融着する。【効果】 ギャップ部の融着ガラスによる浸食が抑えられ、良好な記録再生特性を有する磁気ヘッドが得られる。しかも、この磁気ヘッドは磁気コア半体同士が十分な強度でガラス接合されており優れた機械的特性を発揮する。
請求項（抜粋）：
磁気ギャップ形成面にSiO2 よりなるギャップ膜が形成された一対の磁気コア半体同士を突合せ、これら一対の磁気コア半体同士を融着ガラスで接合するに当たり、融着ガラスの粘度を5000〜10000Pa・sとしてバック側をガラス融着し、融着ガラスの粘度を50000〜200000Pa・sとしてフロント側をガラス融着することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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