特許
J-GLOBAL ID：200903064457172200

光学素子作製方法、これに用いる電着液および光学素子製造装置

発明者：
清水 敬司

清水 敬司 について

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大津 茂実

大津 茂実 について

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谷田 和敏

谷田 和敏 について

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圷 英一

圷 英一 について


出願人/特許権者：
富士ゼロックス株式会社

富士ゼロックス株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-179857
公開番号（公開出願番号）：特開2004-021196
出願日： 2002年06月20日
公開日（公表日）： 2004年01月22日
要約：
【課題】薄膜の面内、膜厚方向において機能性材料の連続的な濃度階調を持たせることが容易な光学素子の作製方法、このための電着液および製造装置。【解決手段】機能性材料を含む電着液を用いて、光電着法あるいは電着法により光学素子作製基板に光学素子を作製する方法において、光学素子作製基板近傍における電着液中の機能性材料の濃度を変化させることにより、その中に含まれる機能性材料が膜厚の方向および/または膜の面内方向において濃度階調を有する薄膜を作製する工程を含む光学素子作製方法、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下し、疎水性基と親水性基を有し、疎水基の数が、親水基と疎水基の総数の30%から80%の範囲にある膜形成高分子材料および機能性材料を含む電着液、および電着又は光電着薄膜形成装置に、光学素子作製基板に対し電着液の流れを形成するための液流形成機構を設けた光学素子製造装置。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
絶縁性基板上に導電性薄膜を設けた光学素子作製基板を、pHが変化することにより水性液体に対する溶解性ないし分散性が低下する膜形成高分子材料および機能性材料を含む水系の電着液に、前記光学素子作製基板の少なくとも前記導電性薄膜が電着液に接触するように配置した状態で、前記導電性薄膜と対向電極の間に電圧を印加し、前記導電性薄膜の上に前記膜形成高分子材料および機能性材料を含む薄膜を析出形成させる工程を含む光学素子作製方法であって、光学素子作製基板近傍における電着液中の機能性材料の濃度を変化させることにより、その中に含まれる機能性材料が濃度階調を有する薄膜を作製する工程を含む光学素子作製方法。
IPC (1件)：
G02B6/13
FI (1件)：
G02B6/12 M
Fターム (12件)：
2H047KA04 ,  2H047PA01 ,  2H047PA15 ,  2H047PA22 ,  2H047PA28 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA41 ,  2H048BA02 ,  2H048BA62 ,  2H048BB02
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (4件)
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