特許

J-GLOBAL ID：200903064463208330

基板洗浄方法及び装置

発明者： 美濃 吉満 ,  堤 英貴 ,  稲垣 典之
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188422
公開番号（公開出願番号）：特開2000-015190
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 2000年01月18日
要約：

【要約】【課題】 洗浄むらを解消でき、またブラシの目詰まりを防止でき、また人の感覚での調整作業の不要な基板洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】 回転可能な基板9の表面に液体又は気体を供給しつつ回転ブラシを接触させて基板9表面を洗浄する基板洗浄装置において、中空軸2の外周に連続気孔多孔質体のスポンジブラシ1を固着するとともに中空軸2内からスポンジブラシ1に連通する流出穴6を形成した回転ブラシを用い、中空軸2の一端から液体又は気体を供給する回転式シールユニット4を設け、液体又は気体をスポンジブラシ1表面から吹き出させながら回転ブラシを回転させて洗浄するようにした。

請求項（抜粋）：

回転可能に支持された基板の表面に液体又は気体を供給しつつ回転ブラシを接触させて基板表面を洗浄する基板洗浄方法において、軸の周囲に連続気孔多孔質体を固着した回転ブラシを用い、液体又は気体を連続気孔多孔質体表面から吹き出させながら洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B08B 1/04 ,  H01L 21/304 644 C ,  H01L 21/304 644 G ,  H01L 21/304 644 Z

Fターム (9件)：

3B116AA03 ,  3B116AB34 ,  3B116BA02 ,  3B116BA15 ,  3B116BB22 ,  3B116BB24 ,  3B116BB33 ,  3B116BB43 ,  3B116CD33