特許
J-GLOBAL ID:200903064484108238

電解酸化による多硫化物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 加茂 裕邦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-538745
公開番号(公開出願番号):特表2000-515106
出願日: 1997年04月25日
公開日(公表日): 2000年11月14日
要約:
【要約】少なくとも表面が炭素からなる多孔性のアノードを配するアノード室、カソードを配するカソード室、及びアノード室とカソード室を区画する隔膜を有する電解槽のアノード室に硫化物イオンを含有する溶液を導入し、そして多硫化物イオンを得るために電解酸化することを含む多硫化物の製造方法。
請求項(抜粋):
少なくとも表面が炭素からなる多孔性のアノードを配するアノード室、カ ソードを配するカソード室、及びアノード室とカソード室を区画する隔膜を有 する電解槽のアノード室に、硫化物イオンを含有する溶液を導入し、そして多 硫化物イオンを得るために電解酸化することを含む多硫化物の製造方法。
IPC (3件):
C01B 17/34 ,  C25B 1/22 ,  D21C 11/04
FI (3件):
C01B 17/34 ,  C25B 1/22 ,  D21C 11/04 Z

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