特許
J-GLOBAL ID：200903064495903854
露光装置、光源装置及びデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-313484
公開番号（公開出願番号）：特開2006-128342
出願日： 2004年10月28日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】 プラズマからのEUV光の特性(例えば、集光点の位置、集光点でのEUV光の強度、集光点から発散する発散角度内での強度分布及びスペクトルなど)を維持し、レチクルを均一に照明して優れた露光性能を発揮する露光装置を提供する。【解決手段】 プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を集光する集光ミラーを有する光源と、前記集光ミラーが集光した前記光でレチクルを照明する照明光学系とを有し、前記レチクルのパターンを被処理体に露光する露光装置であって、前記集光ミラーと前記照明光学系との間に配置され、前記光の特性を検出する検出手段と、前記検出手段の検出結果に基づいて、前記プラズマの状態を変化させる手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を集光する集光ミラーを有する光源と、前記集光ミラーが集光した前記光でレチクルを照明する照明光学系とを有し、前記レチクルのパターンを被処理体に露光する露光装置であって、
前記集光ミラーと前記照明光学系との間に配置され、前記光の特性を検出する検出手段と、
前記検出手段の検出結果に基づいて、前記プラズマの状態を変化させる手段とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, G21K 1/06
, G21K 5/00
, G21K 5/02
H01L21/30 531S
, G03F7/20 503
, G21K1/06 A
, G21K1/06 M
, G21K5/00 A
, G21K5/00 Z
, G21K5/02 X
2H097CA06
, 2H097CA15
, 2H097LA10
, 5F046DA01
, 5F046DA26
, 5F046DB01
, 5F046DB05
, 5F046DC02
, 5F046GA14
, 5F046GC03
