位相シフトマスクの検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-164351
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015835
出願日： 1995年06月29日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】位相シフトマスクに複数回検査光を透過させ、位相誤差を積算することにより計測精度を向上させること。【構成】ミラーとハーフミラーを組み合わせた光学系を利用して複数回検査光をレチクルを透過させ位相シフト量の誤差を積算させることにより、位相シフト量の180°からの誤差を高精度に計測することを特徴とする位相シフトマスクの検査装置である。

請求項（抜粋）：

光源と、光源から出射した光を検査光と参照光の2つに分けるハーフミラーと、検査光の光路に挿入された位相シフトマスクに検査光を複数回透過させる光学系と、参照光の光路に挿入された光路補正部と、前記光学系と光路補正部を通った検査光と参照光を合成するハーフミラーと、合成された検査光と参照光の干渉縞を検出する検出器とを有することを特徴とする位相シフトマスクの検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (3件)：

G03F 1/08 S , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 P

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