特許

J-GLOBAL ID：200903064497838120

基板端面洗浄装置および基板処理装置

発明者： 大谷 正美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-396274
公開番号（公開出願番号）：特開2003-197592
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月11日
要約：

【要約】【課題】 化学的な洗浄のみでは除去することができない基板の端面の汚染を除去することを課題とする。【解決手段】 洗浄装置本体30内には洗浄室31が設けられ、基板Wは、開口部35を介して洗浄室31内に包含される。洗浄室31には、ブラシ40が回転自在に設けられており、回転する基板Wの端面に接触することによって、基板端面を洗浄する。洗浄室31には洗浄液を供給する洗浄液供給路32a,32bが連通しており、洗浄室31内に収容された基板Wの端面の上部と下部から洗浄液を供給する。ブラシ40は洗浄液の供給を受けつつ基板端面を洗浄する。また、洗浄室31には、洗浄室31内を排気する排気パイプ33が接続されており、洗浄液等が開口部35より外部に流出するのを防止する。

請求項（抜粋）：

a)基板を保持しつつ回転させる回転手段と、b)前記回転手段によって回転保持される基板の端面を洗浄する端面洗浄手段と、を備えた基板端面洗浄装置であって、前記端面洗浄手段は、b-1)前記回転手段により回転保持された基板の少なくとも端面を内部に包含する洗浄室と、b-2)前記洗浄室内において基板の端面付近に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、b-3)前記洗浄室内で基板の端面に接触して当該端面を洗浄するブラシと、b-4)前記洗浄室内を排気する排気手段と、を備えることを特徴とする基板端面洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304 648

FI (2件)：

H01L 21/304 644 A ,  H01L 21/304 648 L