真空浸炭方法および装置ならびに浸炭処理製品

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柳田征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-067937
公開番号（公開出願番号）：特開平8-325701
出願日： 1996年03月25日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【課題】真空浸炭方法において、煤の発生を抑えて、深い凹部の内壁面を含めてワークの各部を均一に浸炭することができるようにするとともに、使用するガス量や熱量の節減を可能にする。【解決手段】真空浸炭炉1の加熱室2内で、ワークMを真空加熱するとともに加熱室2内に浸炭ガス源Cからアセチレンガスを供給し、真空排気源Vにより加熱室2内を1kPa 以下の真空状態にして浸炭処理を行なう。

請求項（抜粋）：

鋼材よりなるワークを、真空浸炭炉の加熱室内で真空加熱するとともに、該加熱室内に浸炭用ガスを供給して浸炭処理を行なう真空浸炭方法であって、前記浸炭用ガスとしてガス状の鎖式不飽和炭化水素を使用するとともに、前記加熱室内を1kPa 以下の真空状態として浸炭処理を行なうことを特徴とする真空浸炭方法。

引用特許：

審査官引用 (2件)

特公昭53-035544
特公昭59-017168

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