特許

J-GLOBAL ID：200903064513350329

ホトマスクの欠陥検査装置

発明者： 執行 義春 ,  宮本 佳幸
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-233850
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045863
出願日： 1991年08月21日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】 ホトマスクの欠陥検査を自動化する。【構成】 ステッパ10に検査済のレチクル1を供給する欠陥検査装置11において、レチクル1を複数枚収納するストッカ13と、レチクル1の異物検査を実行する異物検査装置14と、異物検査の結果に基づいてレチクル1の使用の可否を判定する判定部15と、レチクル1をストッカ13、異物検査装置14、ステッパ10間で移送する移送装置16とが設けられている。【効果】 レチクル1がストッカ13に保管されており、レチクル1が移送装置16により異物検査装置14に自動的に移送され、かつまた、異物検査装置14によりレチクル1の異物が自動的に検出されるとともに、この検出データに基づいてレチクル1についての使用の可否が自動的に判定されるため、人間の介在を排除することができる。

請求項（抜粋）：

露光装置に検査済のホトマスクを供給するホトマスクの欠陥検査装置であって、ホトマスクを複数枚収納する収納部と、ホトマスクの欠陥検査を実行し、欠陥を検出する検査実行部と、検査実行部の検査結果に基づいてホトマスクの使用の可否を判定する判定部と、ホトマスクを収納部、検査実行部、および前記露光装置間で移送する移送装置とを、備えていることを特徴とするホトマスクの欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 301 V