特許

J-GLOBAL ID：200903064514192050

露光装置

発明者： 池ケ谷 款治 ,  清水 正樹 ,  内田 直樹
出願人/特許権者： 株式会社トプコン
代理人 (1件)： 田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-276155
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090148
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：

【要約】【目的】 露光工程において基板のレジストのための露光時間の短縮をはかることを可能にし、しかもレジストの酸化防止膜の塗布工程をなくす。【構成】 微細なパターンをフォトリソグラフィーにより基板のレジストに転写する露光装置において、基板8のレジスト45の酸化防止をするための気体を収容する収容手段4と、収容手段4に収容された気体を基板8のレジスト45に導く案内手段5とを備える。

請求項（抜粋）：

微細なパターンをフォトリソグラフィーにより基板のレジストに転写する露光装置において、基板(8)のレジスト(45)の酸化防止をするための気体を収容する収容手段(4)と、収容手段(4)に収容された気体を基板(8)のレジスト(45)に導く案内手段(5)と、を備える露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-103919
  
• 特開平3-272127
  
• 特開平2-103919
  
• 特開平3-272127