特許
J-GLOBAL ID：200903064517130935
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-323704
公開番号（公開出願番号）：特開平6-151293
出願日： 1992年11月09日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：
【要約】【目的】 インターフェース部において処理を可能にし、トラブル発生時には被処理体を退避させて過剰処理を防止すると共に、処理の安定性が図れる処理装置を提供する。【構成】 塗布・現像ステーション1と露光ステーション2間を被処理体Wの受渡しを行うインターフェース部3で接続する。インターフェース部3に熱処理部25を設けると共に、トラブル発生時に熱処理部25からウエハWを退避させる退避部26を設ける。これにより、インターフェース部3において処理を行うことができ、トラブル発生時には熱処理部25からウエハWを退避させてオーバーベーク等の不具合を防止することができ、処理の安全化を図ることができる。
請求項（抜粋）：
第1および第2処理部間を被処理体の受渡しを行うインターフェース部で接続した処理装置において、上記インターフェース部に第3処理部を設けると共に、第3処理部から被処理体を退避させる退避部を設けたことを特徴とする処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B65G 49/07
, H01L 21/68
