特許

J-GLOBAL ID：200903064517398270

ポリエステルフィルムの製造方法

発明者： 佐藤 隆則 ,  奥津 俊光 ,  鈴木 文行 ,  多田 杉彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-035607
公開番号（公開出願番号）：特開平6-248064
出願日： 1993年02月24日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【目的】 静電印加性に優れ、平滑で、透明性の良いポリエステルフィルムを製造する。【構成】 ポリエステルを製造するにあたり、エステル化反応もしくはエステル交換反応が終了するまでに、(a)Mg、Mn及びZnの中より選ばれた原子を含むエチレングリコール可溶性の化合物を添加し、エステル化もしくはエステル交換反応が終了した段階で、(b)燐酸もしくは亜燐酸もしくはこれらのエステル化合物、及び(c)イミダゾール化合物を添加し、さらにエステル化反応またはエステル交換反応の開始から重縮合反応の開始するまでの任意の段階で、(d)破砕型の粒径が0.1μmないし4μmの微粒子シリカをエチレングリコールスラリーとして添加し、次いで重縮合反応によりシリカが分散混入したポリエステルとし、さらにこれをチップ化後溶融製膜してフィルムを得る。

請求項（抜粋）：

テレフタル酸もしくはテレフタル酸誘導体成分とアルキレングリコールとからポリエステルを製造するにあたり、エステル化反応もしくはエステル交換反応が終了するまでの任意の段階で、(a)Mg、Mn及びZnの中より選ばれた原子を含むエチレングリコール可溶性の化合物を添加し、エステル化もしくはエステル交換反応が実質的に終了した段階で、(b)燐酸もしくは亜燐酸もしくはこれらのエステル化合物、及び(c)下記一般式(1)で表されるイミダゾール化合物を添加し、さらにエステル化反応またはエステル交換反応の開始から重縮合反応の開始するまでの任意の段階で、(d)破砕型の粒径が0.1μmないし4μmの微粒子シリカをエチレングリコールスラリーとして連続的または間欠的に添加し、次いで重縮合反応によりシリカが分散混入したポリエステルとし、さらにこれをチップ化後溶融製膜してフィルムを得ることを特徴とするポリエステルフィルムの製造方法。一般式(1)【化1】ここで、R1 とR2 は炭素数1から8個のアルキル基もしくは芳香族基残基で、同一であっても異なっていても良い。

IPC (8件)：

C08G 63/78 NMF ,  C08G 63/78 NMP ,  C08G 63/78 NMQ ,  C08G 63/78 NMR ,  C08J 5/18 CFD ,  C08K 3/36 KJS ,  C08K 5/51 ,  C08L 67/02 KKD