特許

J-GLOBAL ID：200903064537315257

疎水性沈降シリカの製造方法

発明者： フィリップ ジョセフ グリフィス ,  ブライアン ロバート ハークネス ,  ウィリアム ハーロン ,  ローズマリー マーガレット テイラー ,  デビッド ジェームス ウィルソン
出願人/特許権者： ダウ・コ-ニング・コ-ポレ-ション
代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-248432
公開番号（公開出願番号）：特開平11-157825
出願日： 1998年09月02日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 補強充填剤として有用な疎水性沈降シリカを提供すること。【解決手段】 疎水性沈降シリカの製造方法であって、(A)沈降シリカの水性懸濁液を(1)触媒量の酸及び(2)オルガノシラン及びオルガノシロキサンからなる群から選ばれる有機ケイ素化合物に接触させる工程、並びに(B)工程(A)の生成物である疎水性沈降シリカの水性懸濁液を、5:1を超える溶剤対シリカ重量比で水不混和性有機溶剤に接触させることにより前記水性懸濁液から疎水性沈降シリカを分離する工程、を含む方法。

請求項（抜粋）：

疎水性沈降シリカの製造方法であって、(A)沈降シリカの水性懸濁液を(1)触媒量の酸及び(2)式:R1 a HbSiX4-a-b により表されるオルガノシラン及び式:R2 n SiO(4-n)/2 により表されるオルガノシロキサン(式中、各R1 は1〜12個の炭素原子を含む炭化水素基から独立に選ばれ、各R2 は、R2 置換基の少なくとも50モル%が炭化水素基であることを条件として、水素、ヒドロキシ及び1〜12個の炭素原子を含む炭化水素基からなる群から独立に選ばれ、各Xはハロゲン原子又は1〜12個の炭素原子を含むアルコキシ基から独立に選ばれ、aは1、2又は3であり、bは0又は1であり、bが1である場合にa+bが2又は3であることを条件としてa+bは1、2又は3であり、nは2又は3の整数である)からなる群から選ばれる有機ケイ素化合物に接触させる工程、並びに(B)工程(A)の生成物である疎水性沈降シリカの水性懸濁液を、5:1を超える溶剤対シリカ重量比で水不混和性有機溶剤に接触させることにより前記水性懸濁液から疎水性沈降シリカを分離する工程、を含む方法。

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開昭64-003006