ガラス基板および加熱処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-279029
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109573
出願日： 1993年10月12日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】ガラス基板の熱処理(成膜、結晶成長、酸化等で、特にガラス基板の歪み点付近もしくはそれ以上の温度でおこなわれる場合)工程において、良好な基板処理手段・方法を提供する。また、発熱する素子が形成されても良好な放熱性を有するガラス基板を提供する。【構成】ガラス基板の表面に窒化アルミニューム膜を形成する。この窒化アルミニューム膜は、ヒートシンクとして機能し、ガラス基板表面に形成される素子(例えばTFT)から発生られる熱が局所的に集中しないように機能する。

請求項（抜粋）：