特許
J-GLOBAL ID：200903064554359624
基材の表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315225
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230249
出願日： 1991年11月05日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：
【要約】【目的】 基材本来の特性を実質的に損なず且つ所要の親水性を有するとともに耐久性にも優れた親水性薄膜を形成する新規な表面処理方法を提供する。【構成】 表面温度が150°C以下に保持された基材表面に、純度99.99%以上の無機酸化物からなる蒸発源またはターゲットを用いて膜厚100Å以下の無機酸化物薄膜を形成することにより、親水性並びに耐久性に優れた薄膜を形成する。
請求項（抜粋）：
表面温度が150°C以下に保持された基材表面に、純度99.99%以上の無機酸化物からなる蒸発源またはターゲットを用いて膜厚100Å以下の無機酸化物薄膜を形成することを特徴とする基材の表面処理方法。
IPC (3件)：
C08J 7/06
, G02B 1/12
, C12M 3/00
