特許

J-GLOBAL ID：200903064556265716

プラズマディスプレイパネルの製造方法

発明者： 小川 哲也 ,  金具 慎次
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-053519
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267422
出願日： 1993年03月15日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 基板の表面に交互に並列された電極と隔壁とを含んでなるプラズマディスプレイパネル製造方法に関し、特にプラズマディスプレイパネルの製造を容易にする製造方法の提供を目的とする。【構成】 基板11の表面に隔壁13となる絶縁層31を被着した後に、この絶縁層31の表面に隔壁13の平面形状に対応するレジストパターン34を形成し、このレジストパターン34から露出した絶縁層31をエッチングして隔壁13を形成する。また隔壁13を形成した基板11の表面に電極12となる導電性物質32を堆積した後に、この基板11からレジストパターン34及びレジストパターン34の表面に堆積した導電性物質32とを剥離し、基板11の表面の隔壁13間に堆積している導電性物質32を電極12とする。

請求項（抜粋）：

基板(11)の表面に交互に並列された電極(12)と隔壁(13)とを含んでなるプラズマディスプレイパネルにおいて、前記基板(11)の表面に前記隔壁(13)となる絶縁層(31)を被着した後に、この絶縁層(31)の表面に前記隔壁(13)の平面形状に対応するレジストパターン(34)を形成し、このレジストパターン(34)から露出した前記絶縁層(31)をエッチングして前記隔壁(13)を形成する工程と、前記隔壁(13)を形成した基板(11)の表面に前記電極(12)となる導電性物質(32)を堆積した後に、この基板(11)から前記レジストパターン(34)及びレジストパターン(34)の表面に堆積した導電性物質(32)とを剥離し、基板(11)の表面の隔壁(13) 間に堆積している導電性物質(32)を電極(12)となす工程とを含んでなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/24 ,  H01J 9/02 ,  H01J 17/49

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭64-086429
  
• 特開平4-282531
  
• 特開平1-251534
  
• 特開平4-095328