特許
J-GLOBAL ID：200903064559160214
合成ガスの製造法と装置ならびにその応用
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
関根 秀太
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-350265
公開番号（公開出願番号）：特開平5-254802
出願日： 1992年12月02日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】本発明は合成ガスの製造法と装置に関する。本発明による反応器は単一のハウジング内に下記を収納している:・燃料装入部材(2)を少なくとも1つと、酸化剤装入部材(3)を少なくとも1つ具備する非触媒型燃焼室(1)で、「滞留時間が十分な燃焼室」と呼ばれるこの燃焼室では部分燃焼を行う。・燃焼室(1)からのガスが流れる触媒床(4)が少なくとも1つ設けられ、さらに追加の酸化剤装入部材(6)を少なくとも1つと燃料装入部材(7)を少なくとも1つ具備する。本発明の方法と装置は合成ガスを用いた化学製品製造に適用できる。
請求項（抜粋）：
単一のハウジング内に、燃料装入部材(2)を少なくとも1つと、酸化剤装入部材(3)を少なくとも1つ具備し、部分燃焼を生じさせるための非触媒型燃焼室(1)とからなる合成ガス反応器であって、燃焼室(1)からのガスが流れる触媒床(4)は、追加の酸化剤装入部材(6)を少なくとも1つと、さらに酸化剤装入部材(6)の上流に位置し触媒床(4)に開口する追加の燃料装入部材(7)を少なくとも1つ具備する触媒床(4)とを収納し、燃焼室は次式,:V>0.4D/P(式中、Vは立方メートルで表される該燃焼室の内部容積、Dはkg/sで表される燃焼室への流入総量の重量、Pはメガパスカルで表される燃焼室内部の主圧力を表す)を満足させることを特徴とする合成ガス反応器。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
