特許
J-GLOBAL ID:200903064564217119
ラジカル重合によるコポリマーの製造
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
平木 祐輔 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-568887
公開番号(公開出願番号):特表2003-524670
出願日: 1999年08月25日
公開日(公表日): 2003年08月19日
要約:
【要約】本発明は、a) 5〜95重量%の式Iで表されるモノマーと、b) 95〜5重量%の式II(各式中、R1及びR2は水素原子又はC1-C3-アルキル、R3は水素原子又はC1-C6-アルキル、及びnは1〜3である。)で表されるモノマーと、c) 0〜40重量%の、完全に水溶性であるか、又は限られた水溶性を有するさらなるモノマーとをラジカル重合することによりコポリマーを製造する方法に関する。本発明の方法は、重合を水性媒体中で行うことを特徴とする。
請求項(抜粋):
a) 5〜95重量%の式Iで表されるモノマーと、b) 95〜5重量%の式II(各式中、R1及びR2は水素原子又はC1-C3-アルキル、R3は水素原子又はC1-C6-アルキル、及びnは1〜3である。)で表されるモノマーと、c) 0〜40重量%の、完全に水溶性であるか、又は限られた水溶性を有するさらなるモノマーと、をラジカル重合することによりコポリマーを製造する方法であって、重合を水性媒体中で行うことを特徴とする前記方法。
IPC (3件):
C08F226/02
, C08F226/06
, C10L 3/00
FI (3件):
C08F226/02
, C08F226/06
, C10L 3/00 Z
Fターム (22件):
4J100AB07R
, 4J100AE02R
, 4J100AG02R
, 4J100AG04R
, 4J100AJ02R
, 4J100AL03R
, 4J100AL09R
, 4J100AL34R
, 4J100AL36R
, 4J100AM02R
, 4J100AM15R
, 4J100AM17R
, 4J100AM21R
, 4J100AM43R
, 4J100AN04P
, 4J100AN04Q
, 4J100AP01R
, 4J100AP07R
, 4J100BA11
, 4J100BA14
, 4J100BA56
, 4J100BA64
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