特許
J-GLOBAL ID：200903064567480058
走査露光方法、走査型露光装置、及び前記方法を用いるデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-166152
公開番号（公開出願番号）：特開2000-003865
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 2000年01月07日
要約：
【要約】【課題】 走査露光方式で露光するときに、投影系の像面と基板との位置合わせを高精度に行う。【解決手段】 投影光学系8の光軸方向に関するウエハ5の位置情報を検出するために、ウエハ5の移動方向と交差する方向(X方向)に離れた複数の検出点AF31〜AF39のうちの一部の検出点を使って、投影光学系8の像面とウエハ5との位置合わせを行う。
請求項（抜粋）：
露光ビームに対して第1物体を移動するのに同期して、投影系を通過した露光ビームに対して第2物体を移動することにより、前記第2物体を走査露光する走査露光方法において、前記第2物体の移動中に、前記投影系の光軸方向に関する前記第2物体の位置情報を検出するために、前記第2物体の移動方向と交差する方向に離れて配置された複数の検出点の一部を、前記投影系の像面と前記第2物体との位置関係の調整に使用する検出点として選択することを特徴とする走査露光方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 518
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 526 A
