特許

J-GLOBAL ID：200903064573860911

電子放出素子、電子源、画像形成装置及びそれらの製造方法

発明者： 吉岡 利文
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-042891
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243255
出願日： 1999年02月22日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：

【要約】【課題】 低コストかつ容易に、均一な素子電極及び導電性膜を大面積に形成することができる電子放出素子の新規な構成、電子源、画像形成装置、及びそれらの製造方法を提供する。【解決手段】 電子放出素子の製造方法が、基板1上に一対の素子電極2,3を形成する工程と、素子電極2,3間に導電性膜形成材料を含有する溶液の液滴12を付与する工程と、付与した液滴12を加熱、焼成して導電性膜4を形成する工程と、素子電極2,3間に通電し導電性膜4に電子放出部5を形成するフォーミング工程とを有し、液滴付与工程において、少なくとも、液滴付与装置の吐出ヘッド7から基板面に降ろした垂線に対し、吐出ヘッド側にチルト角φを設けて吐出する。

請求項（抜粋）：

基板上に一対の素子電極を形成する工程と、素子電極間に導電性膜形成材料を含有する溶液の液滴を付与する工程と、付与した液滴を加熱、焼成して導電性膜を形成する工程と、素子電極間に通電して、導電性膜に電子放出部を形成するフォーミング工程とを有しており、液滴付与工程において、少なくとも、液滴付与装置の吐出ヘッドから基板面に降ろした垂線に対し、吐出ヘッド側にチルト角を設けて吐出を行うことを特徴とする電子放出素子の製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/02 ,  H01J 1/316 ,  H01J 31/12

FI (3件)：

H01J 9/02 E ,  H01J 1/30 E ,  H01J 31/12 C

Fターム (7件)：

5C036EE01 ,  5C036EE14 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EF09 ,  5C036EG12 ,  5C036EH26