特許

J-GLOBAL ID：200903064584571725

処理システム

発明者： 杢尾 勝利
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-227611
公開番号（公開出願番号）：特開2000-049215
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】 小型で構成部品が少ない処理システムを提供する。【解決手段】 ウェハWを保持し回転させるスピンチャック31と,スピンチャック31に保持されたウェハWの表面にHPMや純水を供給するノズル45をそれぞれ設けた洗浄処理装置9,10,11を備えた洗浄処理システム1において,洗浄処理装置9〜11の複数のスピンチャック31をまとめて回転駆動させる共通のモータ50を設けた。モータ50の回転動力を,各ベルト39等を介して各洗浄処理装置9〜11のスピンチャック31にそれぞれ伝達する。

請求項（抜粋）：

基板を保持し回転させる保持手段と,該保持手段に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段を設けた処理装置を複数備えた処理システムにおいて,前記複数の処理装置に設けられた保持手段をまとめて回転駆動させる共通の回転駆動手段を設けたことを特徴とする,処理システム。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/30 569 D

Fターム (15件)：

5F031BB01 ,  5F031CC01 ,  5F031CC12 ,  5F031EE01 ,  5F031EE12 ,  5F031FF01 ,  5F031JJ01 ,  5F031JJ05 ,  5F031KK02 ,  5F031MM10 ,  5F046HA03 ,  5F046JA05 ,  5F046JA10 ,  5F046LA06 ,  5F046LA11