特許

J-GLOBAL ID：200903064601327663

照度分布補正機能付き投影露光装置

発明者： 蛭川 茂 ,  菊池 哲男
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-245053
公開番号（公開出願番号）：特開平5-062883
出願日： 1991年08月30日
公開日（公表日）： 1993年03月12日
要約：

【要約】【目的】 マスク上のパターン形状に影響を受けることなく基板上での照度分布を適正にする。【構成】 基板501上の露光領域内での照度分布を測定する照度分布測定手段502と、照度分布測定手段502で測定した、マスクを載置しない状態での基板501上の照度分布および基準面積の遮光部を有するテストマスク503を載置した状態での照度分布と、実マスク505から反射される照明光の反射光量とに基づいて、実マスク505を載置したときの基板501上の露光領域内での照度分布を推定する推定手段504と、推定された照度分布に基づいて、実マスク505を載置した時の基板501上の照度分布が予め定めた適正照度分布となるように、照明光学系506からの照明光の分布を補正する補正手段507とを具備する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光を保持手段に載置されているマスクに照射するための照明光学系を有し、前記マスクに形成されたパターンをステージに保持されている基板上に結像投影する投影露光装置において、前記基板上の露光領域内での照度分布を測定する照度分布測定手段と、前記照度分布測定手段で測定した、前記マスクを載置しない状態での基板上の照度分布および基準面積の遮光部を有するテストマスクを載置した状態での照度分布と、前記マスクから反射される前記照明光の反射光量とに基づいて、前記マスクを載置したときの前記基板上の露光領域内での照度分布を推定する推定手段と、前記推定された照度分布に基づいて、前記マスクを載置した時の基板上の照度分布が予め定めた適正照度分布となるように、前記照明光学系からの照明光の分布を補正する補正手段とを具備することを特徴とする照度分布補正機能付き投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 301 G