特許
J-GLOBAL ID：200903064617548929
電子源の製造方法および電子源および画像形成装置および帯電処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
世良 和信 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-048652
公開番号（公開出願番号）：特開2000-251736
出願日： 1999年02月25日
公開日（公表日）： 2000年09月14日
要約：
【要約】【課題】 製造工程中における異常放電を防止すると共に、画像形成時における異常放電の低減を図った品質性に優れた電子源の製造方法および電子源および画像形成装置および帯電処理装置を提供する。【解決手段】 X線照射装置1により発生したX線をカソード基板2に照射し、同時に高圧電源5に電圧を印加して、カソード基板2から放出された光電効果の結果生ぜられる光電子を、グリッド電極6に捕獲することで、高抵抗部分4において、電子の放出と電荷の補給のバランスを崩れさせて、正に帯電させることで、導電性部分3との間で、電位差を生じさせ、電極形状等の異常があった場合には、その部分で沿面放電を発生させることで、コンディショニングする。
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた電極間の電子放出部から電子を放出させる電子源の製造方法において、前記電子放出部を含む高抵抗部分に帯電処理を施す工程を有することを特徴とする電子源の製造方法。
IPC (4件)：
H01J 9/44
, H01J 1/316
, H01J 9/02
, H01J 31/12
H01J 9/44 A
, H01J 1/30 E
, H01J 9/02 E
, H01J 31/12 C
5C012VV08
, 5C036EE09
, 5C036EG15
, 5C036EH04
