超疎水性基材を作るための変調されたプラズマグロー放電処理

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-569035
公開番号（公開出願番号）：特表2002-524660
出願日： 1999年09月07日
公開日（公表日）： 2002年08月06日
要約：

【要約】本発明は、約120°より大きい、好ましくは130°より大きい、より好ましくは150°より大きい静水接触角(WCA)値を特徴とする、表面を超疎水性にするためのポリマーまたは非ポリマー製品を処理する方法を扱う。その方法は、基材が位置する適切な形状の反応容器に中に供給されるフルオロカーボンガスまたは蒸気化合物で実施される変調されたグロー放電プラズマ処理(1)からなる。プラズマプロセスは、基材と固く結合する超疎水性表面特性を有する連続的なフルオロカーボン薄膜を堆積させる。本発明の対象の基材には、ウエブ、テープ、フィルム、粉末、顆粒、製織および不織層の形態の広範な材料が含まれ、基材は、多孔性または非多孔性、成形または造形されたもの、硬質または柔軟性でありえ、ポリマー、布帛、紙、セルロース誘導体、生分解性材料、金属、セラミックス、半導体、および他の無機または有機材料で作られたものでありうる。好ましくは、基材は、本発明の処理目的に供される前にその意図される用途に応じて所望の形態または形状に成形される。有機合成樹脂が選ばれるとき、そのような基材材料は、ポリエチレン、ポリアクリル、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリフルオロカーボン、ポリエステル、シリコーンゴム、炭化水素ゴム、ポリカーボネート、および他の合成ポリマーから製造されうるであろう。特に好ましいポリマー基材はポリエチレンまたはポリプロピレンである。

請求項（抜粋）：

基材を処理するための方法であって、フルオロカーボンガスまたは蒸気の存在下でプラズマグロー放電に前記基材を暴露する工程を含み、前記プラズマが変調されたグロー放電として発生することを特徴とする基材を処理するための方法。

IPC (7件)：

C23C 26/00 , C03C 17/32 , C08J 7/16 CEP , C08J 7/16 CER , C08J 7/16 CEZ , C23C 16/50 , C08L101:00

FI (7件)：

C23C 26/00 D , C03C 17/32 A , C08J 7/16 CEP , C08J 7/16 CER , C08J 7/16 CEZ , C23C 16/50 , C08L101:00

Fターム (50件)：

4F073AA02 , 4F073BA03 , 4F073BA04 , 4F073BA07 , 4F073BA08 , 4F073BA13 , 4F073BA15 , 4F073BA18 , 4F073BA19 , 4F073BA23 , 4F073BA26 , 4F073BA28 , 4F073BA29 , 4F073BA33 , 4F073CA02 , 4F073FA06 , 4G059AA01 , 4G059AC22 , 4G059FA11 , 4G059FB01 , 4K030AA04 , 4K030AA09 , 4K030BA61 , 4K030CA02 , 4K030CA04 , 4K030CA05 , 4K030CA06 , 4K030CA07 , 4K030CA08 , 4K030CA11 , 4K030CA13 , 4K030CA18 , 4K030FA03 , 4K030JA09 , 4K030JA16 , 4K030KA30 , 4K030LA01 , 4K030LA11 , 4K044AA01 , 4K044AA13 , 4K044AA16 , 4K044AB01 , 4K044AB02 , 4K044AB03 , 4K044AB08 , 4K044AB09 , 4K044BA21 , 4K044BB01 , 4K044BC02 , 4K044CA34

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