特許

J-GLOBAL ID：200903064660711124

高濃度分散質微粒子スラリー及びその製造方法

発明者： 葛谷 稔 ,  戸堀 悦雄 ,  正水 孝二
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-297212
公開番号（公開出願番号）：特開平8-155290
出願日： 1994年11月30日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】 高い流動性と優れた安定性を有する高濃度分散質微粒子スラリー及びその製造方法を提供する。【構成】 分散質微粒子及び分散媒を含む高濃度スラリーであって、高濃度スラリー状態で測定した分散質微粒子の平均粒子径d50(累積で50%になる粒子径)が0.05〜5μmで、かつ下記式で表される対数正規分布における標準偏差が5.0以下である高濃度スラリー。 Y=1/(2π)1/2lnδ×∫exp[-(lnX-lnm)2 /2ln2δ]dx (Y:累積値、δ:標準偏差、X:粒子径、m:平均粒子径)

請求項（抜粋）：

分散質微粒子及び分散媒を含む高濃度スラリーであって、高濃度スラリー状態で測定した分散質微粒子の平均粒子径d50(累積で50%になる粒子径)が0.05〜5μmで、かつ下記式で表される対数正規分布における標準偏差が5.0以下である高濃度スラリー。 Y=1/( 2π)1/2lnδ×∫exp[-(lnX-lnm)2 /2ln2δ]dx (Y:累積値、δ:標準偏差、X:粒子径、m:平均粒子径)

IPC (3件)：

B01J 13/00 ,  B01F 3/12 ,  G01N 33/26