特許
J-GLOBAL ID:200903064682654108

微細シリカの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-271722
公開番号(公開出願番号):特開平8-109014
出願日: 1994年10月11日
公開日(公表日): 1996年04月30日
要約:
【要約】【構成】 オルガノハロシラン又はジシランを燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガス及び遊離酸素を含有するガスの拡散火炎中で火炎加水分解することを特徴とする微細シリカの製造方法。【効果】 本発明によれば、比表面積の大きい微細シリカ(ヒュームドシリカ)を操作上の不都合なく工業的有利に製造することができる。
請求項(抜粋):
オルガノハロシラン又はジシランを燃焼して水蒸気を発生する可燃性ガス及び遊離酸素を含有するガスの拡散火炎中で火炎加水分解することを特徴とする微細シリカの製造方法。
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特公昭56-038526
  • 特公昭58-054085
  • 特公昭43-004652

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