特許
J-GLOBAL ID：200903064684467909

描画装置の基板の搬送機構

発明者：
清水 修一

清水 修一 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (2件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-084858
公開番号（公開出願番号）：特開2005-274711
出願日： 2004年03月23日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】基板製造工程における搬送機構のダウンサイズ、コストダウンを図るとともに、基板表面に傷をつけず、ゴミ付着を生じさせない。さらに、基板のサイズに応じて基板位置を容易に計測する。【解決手段】描画装置10の描画テーブル30にローラ41〜48を設け、テーブル30の支持面30S上に多数の空気孔ARを規則的に形成する。そして、コンプレッサにより支持面30Sから圧縮されたエアを吹き出す。基板SWがコンベア70により運ばれる基板SWが浮いた状態で描画テーブル30に進入すると、ローラ42、44(46、48)の駆動により基板SWを搬送方向に沿って所定の位置まで移動させる。そして、ゲージ測定部62、64、66を上昇させ、基板SWを搬送方向とは逆方向へ移動させ、リニアゲージの先端面を基板Sの後縁面S4に当てる。そして、空気孔ARを介して基板SWと支持面30S間を減圧させ、基板SWを支持面30Sへ搭載させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
搬送されてくるパターン形成用基板を支持台の支持面へ載せ、搭載された基板の位置を検出可能な描画装置であって、 前記支持面から所定の高さの位置を通って前記支持台へ進入してくる前記基板に対し、前記支持面から前記基板へ向けて気体を吹き付けることにより前記基板を前記支持面から浮かせた状態で保持する浮揚手段と、 前記基板を浮いた状態で基板両側面から付勢し、搬送方向に沿って所定位置まで案内する案内手段と、 前記基板の後縁面の位置に基づいて、基板位置を検出する位置検出手段と、 前記基板と前記支持面との間の気体の流れを制御することにより、前記基板を浮いた状態から前記支持面へ載せる搭載手段とを備え、 前記位置検出手段が、 前記支持面上において基板の移動領域から退避可能であって、前記基板の後縁面が前記支持面上に移動した後に前記基板の後縁面と接するように配置され、前記基板の後縁面の位置を検出する後縁面検出部を有することを特徴とする描画装置。
IPC (3件)：
G03F7/20 ,  B65G49/06 ,  H01L21/68
FI (4件)：
G03F7/20 501 ,  B65G49/06 Z ,  H01L21/68 A ,  H01L21/68 F
Fターム (26件)：
2H097AB05 ,  2H097DB03 ,  2H097DB11 ,  2H097LA09 ,  2H097LA11 ,  5F031CA05 ,  5F031CA09 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA53 ,  5F031GA62 ,  5F031HA13 ,  5F031HA53 ,  5F031JA06 ,  5F031JA08 ,  5F031JA22 ,  5F031JA32 ,  5F031JA40 ,  5F031LA08 ,  5F031LA09 ,  5F031LA15 ,  5F031MA27 ,  5F031PA16 ,  5F031PA18 ,  5F031PA23
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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