特許
J-GLOBAL ID：200903064688177085

ガス制御弁ユニットのガス通路構造

発明者：
植原 浩三

植原 浩三 について


出願人/特許権者：
株式会社ノーリツ

株式会社ノーリツ について


代理人 (1件)： 岡村 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362039
公開番号（公開出願番号）：特開2001-173829
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】 ガス通路の通路抵抗を低減でき、品質と信頼性に優れたガス通路と電磁開閉弁を構成できるガス制御弁ユニットのガス通路構造を提供する。【解決手段】 ガス制御弁ユニット7は、ガス通路40、元弁41、比例弁42、ボディ本体43等を備え、ボディ本体43の内部のガス通路40a〜40cの一部40bが、インサート成形によりボディ本体43に組み込んだ管部材44で構成されている。管部材44の左端部に元弁41の弁座65を予め形成してから、管部材44がインサート成形によりボディ本体43に組み込まれる。
請求項（抜粋）：
ガス通路と、このガス通路の途中部を開閉する電磁開閉弁と、前記ガス通路を形成するとともに電磁開閉弁のボディを形成するボディ本体とを備えたガス制御弁ユニットにおいて、前記ボディ本体の内部のガス通路の少なくとも一部を、インサート成形によりボディ本体に組み込んだ管部材で構成したことを特徴とするガス制御弁ユニットのガス通路構造。
IPC (4件)：
F16K 31/06 305 ,  F16K 31/06 ,  F16K 31/06 340 ,  F23K 5/00 301
FI (4件)：
F16K 31/06 305 M ,  F16K 31/06 305 K ,  F16K 31/06 340 ,  F23K 5/00 301 D
Fターム (18件)：
3H106DA05 ,  3H106DA07 ,  3H106DA23 ,  3H106DA32 ,  3H106DB02 ,  3H106DB23 ,  3H106DB32 ,  3H106DC02 ,  3H106DD02 ,  3H106DD07 ,  3H106EE31 ,  3H106EE34 ,  3H106EE35 ,  3H106EE36 ,  3H106EE39 ,  3K068AA01 ,  3K068CA04 ,  3K068EA03
引用特許：
審査官引用 (3件)

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