特許

J-GLOBAL ID：200903064697120240

蛍光X線分析装置

発明者： 片岡 由行 ,  奥田 和明 ,  松尾 尚
出願人/特許権者： 理学電機工業株式会社
代理人 (1件)： 杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293478
公開番号（公開出願番号）：特開2000-121584
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】 蛍光X線分析において、適切な分析条件の設定を容易にし、迅速で正確な分析ができる装置を提供する。【解決手段】 試料の品種ごとの適切な分析条件を記憶する品種分析条件記憶手段11A のほか、以下の手段12A, 13A等を備える。選択情報表示制御手段12A は、前記品種分析条件記憶手段11A に記憶した試料の品種から操作者により所望の1品種を選択させるための情報を、表示器16に表示させる。品種分析条件設定手段13A は、選択された品種に適切な分析条件を前記品種分析条件記憶手段11A から呼び出して、試料の分析を実行する制御装置15に与える。

請求項（抜粋）：

与えられた分析条件にしたがって試料の分析を実行する制御装置を備え、試料に1次X線を照射して発生する2次X線の強度を測定する蛍光X線分析装置であって、試料の品種ごとの適切な分析条件を記憶する品種分析条件記憶手段と、その品種分析条件記憶手段に記憶した試料の品種から操作者により所望の1品種を選択させるための情報を、表示器に表示させる選択情報表示制御手段と、選択された品種に適切な分析条件を前記品種分析条件記憶手段から呼び出して前記制御装置に与える品種分析条件設定手段とを備えた蛍光X線分析装置。

IPC (2件)：

G01N 23/223 ,  G01D 21/00

FI (2件)：

G01N 23/223 ,  G01D 21/00 M

Fターム (28件)：

2F076BA01 ,  2F076BE04 ,  2F076BE06 ,  2F076BE10 ,  2F076BE14 ,  2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001EA01 ,  2G001FA06 ,  2G001FA25 ,  2G001GA01 ,  2G001JA13 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001KA11 ,  2G001LA02 ,  2G001LA05 ,  2G001LA06 ,  2G001MA02 ,  2G001MA05 ,  2G001NA06 ,  2G001NA10 ,  2G001NA11 ,  2G001NA13 ,  2G001NA17 ,  2G001RA01 ,  2G001SA29

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 分析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-261963   出願人：株式会社島津製作所
• 分析システムの管理制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-188910   出願人：株式会社島津製作所
• クロマトグラフ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-249553   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ