特許
J-GLOBAL ID：200903064697683740
フオトマスク検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
池内 義明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-203924
公開番号（公開出願番号）：特開平5-027410
出願日： 1991年07月18日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構成により位相シフト型フォトマスクの位相シフタ部、光透過部および遮光部を判別し、かつ位相シフタ部の膜厚測定をも可能にする。【構成】 フォトマスク検査装置において、フォトマスクに複数の異なる波長の光を照射し各波長ごとの反射光強度を検出する。これら各波長ごとの反射光強度の差または比のようなレベル関係に基づき位相シフト型フォトマスクの位相シフタ部、光透過部および遮光部を判別し、位相シフタ部の膜厚を測定する。
請求項（抜粋）：
フォトマスクに光を照射する光照射手段と、前記照射されたフォトマスクの画像を位相シフタ部の特性によって定まる複数の互いに異なる波長ごとに選択的に検出する撮像手段と、前記撮像手段による各波長ごとの検出信号間のレベル関係にもとづき前記フォトマスクの位相シフタ部、光透過部および遮光部の内の少なくとも1つを判別する演算処理手段とを具備することを特徴とするフォトマスク検査装置。
IPC (2件)：
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