特許

J-GLOBAL ID：200903064704276242

パターン形状の変形方法

発明者： 西尾 修
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-213225
公開番号（公開出願番号）：特開平7-065055
出願日： 1993年08月27日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】 フォトリソグラフィ工程における変形後のパターン形状を、煩わしい入力操作を伴うことなく迅速、かつ精度よく作製できるパターン形状の変形方法を実現する。【構成】 LSI作製プロセス中のフォトリソグラフィ工程におけるパターンのシフト量およびパターンの角部分の曲線化を表す曲率半径からなる2つのパラメータをコンピュータ1の計算部10に与える。また、計算部10には設計パターン20が与えられている。計算部10は、入力された2つのパラメータに基づき、設計パターン20より変形後のパターン形状を自動的に作製する。

請求項（抜粋）：

LSI作製プロセス中のフォトリソグラフィ工程におけるパターンのシフト量および該パターンの角部分の曲線化を表すパラメータをパターン形状演算装置に入力し、該パターン形状演算装置が入力情報により既存の設計パターン形状からフォトリソグラフィ工程後のパターン形状を算出して作製するパターン形状の変形方法。

IPC (3件)：

G06F 17/50 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G06F 15/60 310 ,  H01L 21/30 502 V