特許
J-GLOBAL ID:200903064717143497

表面堆積物を除去するための遠隔チャンバ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-505282
公開番号(公開出願番号):特表2007-531288
出願日: 2005年03月24日
公開日(公表日): 2007年11月01日
要約:
本発明は、電子デバイスを製造する際に使用される堆積チャンバの内部などの表面から表面堆積物を除去するための改良されたリモートプラズマクリーニング方法に関する。改良は、少なくとも約3,000Kの高中性温度で活性化ガスを使用することを伴う。改良は、より良好なエッチング速度および放出ガス制御のために酸素対フルオロカーボン比を最適化することも伴う。
請求項(抜粋):
表面堆積物を除去するための方法であって、 (a)酸素とフルオロカーボンとのモル比が少なくとも1:4である、酸素とフルオロカーボンとを含むガス混合物を、前記ガス混合物が少なくとも約3,000Kの中性温度に達するように十分な時間の間十分な電力を使用して、遠隔チャンバ内で活性化して、活性化ガス混合物を形成する工程と、その後、 (b)前記活性化ガス混合物を前記表面堆積物と接触させ、それにより、前記表面堆積物の少なくともいくつかを除去する工程と を含むことを特徴とする方法。
IPC (3件):
H01L 21/306 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/31
FI (3件):
H01L21/302 101H ,  C23C16/44 J ,  H01L21/31 B
Fターム (13件):
4K030DA06 ,  5F004AA15 ,  5F004BA20 ,  5F004CA02 ,  5F004DA00 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F045AA08 ,  5F045AC00 ,  5F045AC11 ,  5F045EB06

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