特許
J-GLOBAL ID：200903064730905274

CO除去装置

発明者：
門脇 正天

門脇 正天 について

, 
三宅 泰夫

三宅 泰夫 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 司朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-042231
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243425
出願日： 1999年02月19日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】【課題】比較的簡単な装置構成であって、且つ副反応を抑え高反応率でCOの選択酸化反応を行うことのできるCO除去装置を提供する。【解決手段】 選択酸化触媒器3は、ガス流通管30に選択触媒が充填されることによって選択酸化触媒層40が形成され、選択酸化触媒層40のガス流通方向途中において、ガス流通管30内の中央寄りを流通するガスと外周寄りを流通するガスとを混合撹拌するガス混合撹拌部50が設けられている。また、ガス混合撹拌部50より上流側において、選択酸化触媒層40を周りから冷却できるよう冷却部60設けられている。
請求項（抜粋）：
一酸化炭素を含む水素リッチなガスに空気を混合する空気混合器と、ガス流通管の内部に選択酸化触媒が充填されることによって選択酸化触媒層が形成されており、空気混合部で生成された混合ガスを前記選択酸化触媒層に流通させることによって一酸化炭素を選択的に酸化する選択酸化触媒器とからなるCO除去装置において、前記選択酸化触媒器には、選択酸化触媒層のガス流通方向途中において、ガス流通管内の中央寄りを流通するガスと外周寄りを流通するガスとを混合撹拌するガス混合撹拌部と、当該ガス混合撹拌部より上流側において前記選択酸化触媒層を周りから冷却できるよう設けられた冷却部とが備えられていることを特徴とするCO除去装置。
IPC (4件)：
H01M 8/06 ,  C01B 3/34 ,  H01M 8/04 ,  C01B 31/20
FI (4件)：
H01M 8/06 G ,  C01B 3/34 ,  H01M 8/04 N ,  C01B 31/20 A
Fターム (13件)：
4G040EA02 ,  4G040EA06 ,  4G040EB14 ,  4G040EB23 ,  4G040EB46 ,  4G046JA05 ,  4G046JB04 ,  4G046JB21 ,  4G046JC01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA05 ,  5H027BA17
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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