特許

J-GLOBAL ID：200903064752159401

処理システム

発明者： 出口 洋一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-274955
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104326
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：

【要約】[目的]処理部および被処理体搬入・搬出部をそれぞれ任意にレイアウトできるようにする。[構成]上階室10では、床面つまり板壁14の上面に複数のプロセスチャンバ16が各々の正面を中心側に向けるようにして環状に配設され、各壁26によって気密な搬送室26が形成されており、その中心位置付近に搬送アーム18が設置されている。下階室12では、回転テーブル40が設けられ、ウエハカセットCRが搬送ロボット42より回転テーブル40上に移載される。回転テーブル40の内側には搬送アーム44が設置されている。下階室12と上階室10との間には、気密に構成されたクリーントンネル22Aが設けられ、このクリーントンネル22A内に上下方向に移動可能なウエハ搬送装置65が設けられている。

請求項（抜粋）：

第1の室と第2の室とを板壁を介して縦方向に分離し、前記第1の室内には1つまたは複数の処理装置を配設し、前記第2の室内には被処理体の搬入・搬出を行うためのポートを設け、前記第1の室と前記第2の室との間に前記被処理体の搬送を行うための縦方向に移動可能な搬送手段を設けたことを特徴とする処理システム。