特許

J-GLOBAL ID：200903064760862570

密着性に優れた薄膜の製造方法

発明者： 小森 唯志 ,  中原 敏樹
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 井上 雅生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-058257
公開番号（公開出願番号）：特開平7-243040
出願日： 1994年03月04日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法等のドライコーティング法により、ステンレス鋼基板に密着性に優れる金属、セラミックの薄膜を短時間の処理でコーティングする。【構成】 コーティング処理槽内を排気して全圧力を少なくとも1×10-4Torr以下とし、続いてキャリアガスを供給して全圧力を1×10-2〜1×10-4Torrとし、続いてTi等の酸化物を生成する金属を蒸発させてH2Oガス分圧を少なくとも1×10-6Torr以下とし、続いてドライコーティング法により薄膜をコーティングする。H2Oガス分圧を低減することにより、薄膜の密着性を大幅に改善できる。また、真空ポンプによる排気のみではH2Oガス分圧低減に長時間を要するため、金属を蒸発させることにより短時間でH2Oガス分圧の低減をはかる。

請求項（抜粋）：

ステンレス鋼板の表面にセラミックをドライコーティング処理する方法において、コーティング処理槽内を排気して全圧力を少なくとも1×10-4Torr以下とし、続いてキャリアガスを前記コーティング処理槽内に供給して全圧力を1×10-2〜1×10-4Torrとし、続いて酸化物を生成する金属を前記コーティング処理槽内で蒸発させてH2Oガス分圧を少なくとも1×10-6Torr以下とし、続いてドライコーティング処理を行うことを特徴とする密着性に優れた薄膜の製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/54 ,  C23C 14/08