特許
J-GLOBAL ID:200903064761339870

表面性状測定方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 羽鳥 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-211670
公開番号(公開出願番号):特開平7-071945
出願日: 1992年08月07日
公開日(公表日): 1995年03月17日
要約:
【要約】【目的】 物体表面における「質感」、「光沢」、「つや」等の状態を適確に解析できる表面性状測定方法及びその装置の提供。【構成】 本発明の表面性状測定方法及びその装置は、互いに照射角の異なる複数の照射光路2a〜2dの一つから物体表面の被解析面に光を照射し、複数の受光光路3a〜3eのそれぞれに被解析面における上記照射光の反射光を受光させ、上記複数の照射光路2a〜2dを種々選択することによって、上記受光光路3a〜3eの受光角θ3 、θ4 、θ5 、θ6 と照射光路2a〜2dの照射角θ1 、θ2 、θ7 、θ8 との和である解析角を種々変えて、複数の解析角における被解析面に対する光の反射率を測定し、予め測定された基準となる表面の光の反射率と比較して物体の表面の状態を解析する。
請求項(抜粋):
互いに照射角の異なる複数の照射光路の一つから物体表面の被解析面に光を照射し、被解析面で反射した上記照射光の反射光を互いに受光角の異なる複数の受光光路で受光させ、上記複数の照射光路を種々選択することによって照射光路の照射角を変化させて上記受光角と上記照射角との和である解析角を種々変え、複数の解析角における被解析面に対する光の反射率を測定し、予め測定された基準となる表面の光の反射率と比較して物体の表面の状態を解析することを特徴とする表面性状測定方法。
IPC (3件):
G01B 11/30 ,  A61B 5/107 ,  G01N 21/57

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