特許
J-GLOBAL ID：200903064762659550
流動層処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-112001
公開番号（公開出願番号）：特開平7-289878
出願日： 1994年04月27日
公開日（公表日）： 1995年11月07日
要約：
【要約】【目的】 反転装置を用いることなく製品取り出しを可能とした流動層処理装置を提供する。【構成】 造粒機本体1に原料粉末を入れた原料容器11が取り付けられる。原料容器11の製品取り出し口20には、輸送パイプ71と真空吸引装置72により構成された排出装置7を介して製品ホッパー6が直結される。造粒機本体1に取り付けられた原料容器11内で原料を流動化させながら造粒処理が行われ、処理済み製品は流動化させた状態で真空吸引されて、製品ホッパー6に直接輸送される。
請求項（抜粋）：
原料粉末を流動させながら造粒、乾燥、造粒コーティング等の処理を行う流動層処理装置本体と、この流動層処理装置本体に連結されて、流動層状態にある処理済み製品を真空吸引して製品ホッパーに輸送する排出手段とを有することを特徴とする流動層処理装置。
IPC (3件)：
B01J 2/16
, A23P 1/02
, A61J 3/06
