特許
J-GLOBAL ID:200903064765961320

可変抵抗物質を含む不揮発性メモリ素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 八田 幹雄 ,  奈良 泰男 ,  宇谷 勝幸 ,  藤田 健 ,  都祭 正則 ,  長谷川 俊弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-112037
公開番号(公開出願番号):特開2007-300100
出願日: 2007年04月20日
公開日(公表日): 2007年11月15日
要約:
【課題】可変抵抗物質を含む不揮発性メモリ素子を提供する。【解決手段】下部電極20と、下部電極上に形成された第1酸化層22と、第1酸化層上に形成されて可変抵抗特性を有する第2酸化層24と、第2酸化層上に形成されたバッファ層26と、バッファ層上に形成された上部電極28と、を備える可変抵抗物質を含む不揮発性メモリ素子である。【選択図】図2
請求項(抜粋):
可変抵抗物質を含む不揮発性メモリ素子において、 下部電極と、 前記下部電極上に形成された第1酸化層と、 前記第1酸化層上に形成されて可変抵抗特性を有する第2酸化層と、 前記第2酸化層上に形成されたバッファ層と、 前記バッファ層上に形成された上部電極と、 を備えることを特徴とする可変抵抗物質を含む不揮発性メモリ素子。
IPC (3件):
H01L 27/10 ,  H01L 45/00 ,  H01L 49/00
FI (3件):
H01L27/10 451 ,  H01L45/00 Z ,  H01L49/00 Z
Fターム (7件):
5F083FZ10 ,  5F083GA11 ,  5F083JA37 ,  5F083JA38 ,  5F083JA39 ,  5F083JA43 ,  5F083JA60

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