特許
J-GLOBAL ID：200903064770332919
シリカ系被膜形成用コーティング組成物および被膜付基材
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-150958
公開番号（公開出願番号）：特開平7-102217
出願日： 1994年07月01日
公開日（公表日）： 1995年04月18日
要約：
【要約】【構成】 特定の繰り返し単位を少なくとも有する1種または2種以上のポリシラザンと、フェノール化合物とを反応させて得られる改質ポリシラザンを含有するシリカ系被膜形成用コーティング組成物、および該コーティング組成物を用いて形成されたシリカ系被膜を有する被膜付基材。【効果】上記コーティング組成物を基材上に塗布して得られた塗膜を乾燥・焼成すると、被塗布面の凹凸が高度に平坦化された被膜付基材が得られる。
請求項（抜粋）：
下記一般式[I]【化1】(式中、R1 、R2 およびR3 は、それぞれ独立して水素原子または炭素原子数1〜8のアルキル基である。)で表わされる繰り返し単位を少なくとも有する1種または2種以上のポリシラザンと、フェノール化合物とを反応させて得られる改質ポリシラザンを含有することを特徴とするシリカ系被膜形成用コーティング組成物。
IPC (4件)：
C09D183/16 PMM
, H01L 21/316
, C08G 77/48 NUM
, G02F 1/1333 505
