特許
J-GLOBAL ID:200903064783156893
研磨用バックアップ材およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (2件):
津国 肇
, 篠田 文雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-097635
公開番号(公開出願番号):特開2006-272522
出願日: 2005年03月30日
公開日(公表日): 2006年10月12日
要約:
【課題】 作業環境を阻害せずに、平滑性に優れ、研磨の際に研磨対象を固着させ、かつ研磨後に研磨対象を脱離させる適度の粘着性を有するバックアップ材を提供する。【解決手段】 ポリマー含有相と水相からなるエマルション、起泡剤および気泡安定剤を含むエマルション組成物を乾燥、発泡させて得られるポリマー発泡体層と、平均細孔径0.2〜15μm、厚さ1〜200μmの連続気泡の多孔性フィルムを含むポリマーラテックス研磨用バックアップ材;および多孔性フィルムの面にエマルション組成物を流延し、乾燥、発泡させる工程を含む研磨用バックアップ材の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
(A)ポリマー含有相と水相からなるポリマーエマルション、該エマルション中のポリマーが100重量部になる量;
(B)起泡剤 1.0〜6.0重量部;および
(C)気泡安定剤 0.5〜6.0重量部
を含むエマルション組成物を乾燥、発泡させて得られたポリマー発泡体層と、平均細孔径0.2〜15μm、厚さ1〜200μmの連続気泡の多孔性フィルムを含む研磨用バックアップ材。
IPC (4件):
B24B 41/06
, B05D 7/24
, B24B 37/04
, B32B 5/32
FI (4件):
B24B41/06 L
, B05D7/24 301F
, B24B37/04 E
, B32B5/32
Fターム (28件):
3C034AA20
, 3C034BB73
, 3C034DD08
, 3C034DD10
, 3C034DD20
, 3C058AA07
, 3C058AB04
, 3C058DA17
, 4D075CB34
, 4D075DA04
, 4D075DB31
, 4D075EA13
, 4D075EC07
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK51
, 4F100BA02
, 4F100CA01A
, 4F100CA05A
, 4F100DJ01A
, 4F100DJ03B
, 4F100EJ02A
, 4F100EJ37
, 4F100EJ86A
, 4F100GB90
, 4F100JK15
, 4F100JM01A
, 4F100YY00B
引用特許:
出願人引用 (3件)
-
特開平3-213573号公報
-
特開平4-183578号公報
-
研磨用基布の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-169100
出願人:富士紡績株式会社
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