マイクロ波プラズマ処理装置および処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：打揚洋次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-248200
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059919
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】基板表面で均一なプラズマ密度を得、信頼性、安定性の高い高効率プラズマ処理を行うことができるマイクロ波プラズマ処理装置および処理方法の提供。【解決手段】基板表面の直上に設けられる誘電体窓として、外周部にリング状のスリーブを有し、さらに、中央部の表面形状や厚さが面内調整されたものを用いる。この面内調整は、基板内の半径の所定範囲に対応する誘電体窓の領域に凸部を設けたり、凸部の設けられた面と反対側の面の凸部対応領域に凹部を設けること等により段差を設けて行われる。誘電体窓の面内調整された領域の厚さが、誘電体内のマイクロ波の波長の1/4程度であり、また、面内調整領域が、誘電体窓の径方向に1/2波長の整数倍の直径で不連続に設けられる。

請求項（抜粋）：

マイクロ波プラズマ処理容器内を減圧するための排気手段と、該処理容器内にプラズマを励起するためのガスを供給するためのガス供給手段と、該処理容器の壁面に設けられたマイクロ波透過用誘電体窓と、該誘電体窓のマイクロ波導入側に設けられたアンテナ手段と、該アンテナ手段の上流側に設けられたマイクロ波発生手段とを備え、該誘電体窓に対向して該処理容器内に基板が設置されるように構成されているマイクロ波プラズマ処理装置において、該基板表面の直上に設けられた該誘電体窓は、その処理容器側の面の外周部に、プラズマ励起領域が直接処理容器壁の金属表面と接触しないように、リング状のスリーブを有している事を特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/31 , B01J 19/08 , H05H 1/46

FI (3件)：

H01L 21/31 E , B01J 19/08 H , H05H 1/46 B

Fターム (23件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC01 , 4G075BC06 , 4G075CA26 , 4G075EC30 , 4G075EE02 , 4G075FA05 , 4G075FC15 , 5F045AA20 , 5F045AB32 , 5F045AC11 , 5F045AC14 , 5F045AD08 , 5F045AE19 , 5F045AE21 , 5F045AF03 , 5F045BB02 , 5F045DP04 , 5F045EH03 , 5F045EH11 , 5F045EH20 , 5F045GB13

引用特許：

審査官引用 (5件)

マイクロ波プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-079692 出願人：住友金属工業株式会社
堆積膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-336222 出願人：キヤノン株式会社
プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-048887 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス

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